진공 분위기 박스 용광로는 진공 환경과 분위기 제어 기능을 결합한 고온 처리 장비로, 주로 소결, 어닐링, 열처리 등 다양한 공정에 사용됩니다. 이 장비는 제어된 분위기 조건 하에서 재료를 가열 처리할 수 있도록 하여, 일반적으로 400℃에서 1800℃까지의 온도 범위에서 사용되며, 진공 수준은 0.1MPa를 초과하지 않습니다.

기본 사양:

• 박스 구조: 진공 분위기 박스 용광로는 박스 모양의 외관을 가지며, 처리할 재료를 놓을 수 있는 내부 공간을 갖추고 있습니다. 박스 구조 설계는 대량의 샘플을 처리하기에 적합합니다.

• 진공 환경: 진공 분위기 박스 용광로는 진공 환경에서 열처리를 수행할 수 있습니다. 용광로 챔버에서 산소 및 기타 가스를 제거하여 재료의 산화, 탈가스 및 기타 반응을 방지하며, 이를 통해 재료의 순도와 품질을 향상시킵니다.

• 분위기 제어: 진공 환경 외에도, 진공 분위기 박스 용광로는 질소, 아르곤 등과 같은 비활성 가스 환경을 제어할 수 있어, 재료의 화학 반응, 탈가스 및 순도를 제어하는 데 유용합니다.

• 고온 가열: 진공 분위기 박스 용광로는 일반적으로 고온 가열을 제공하며, 공기 중에서 최대 1800℃까지 온도를 도달할 수 있습니다. 이는 금속, 세라믹, 유리 등 고온 처리가 필요한 재료에 적합합니다.

• 정밀 제어: 진공 분위기 박스 용광로는 보통 고정밀 온도 제어 시스템을 갖추고 있어, 다양한 재료의 열처리 요구 사항을 충족하기 위해 온도, 압력, 분위기 조성 등을 정밀하게 제어할 수 있습니다.

• 진공 수준: 구조적 특성으로 인해 진공 분위기 박스 용광로는 지나치게 높은 압력 및 진공 수준을 견딜 수 없습니다. 일반적으로 약 0.1MPa의 양압 및 음압을 처리할 수 있습니다. 처음에는 용광로 챔버를 배기한 후, 분위기를 도입하여 소결 환경을 더 깨끗하게 만듭니다.

• 가스 경로 및 흐름: 진공 분위기 박스 용광로는 기본적으로 두 개의 표준 가스 입구를 갖추고 있으며, 이에는 부유식 유량계와 압력 게이지가 포함됩니다. 추가적인 기능과 제품 확장은 이를 기반으로 추가할 수 있습니다.

선택 사항:

• 맞춤형 제어 방법: 전통적인 PID 제어 외에도, 수입된 기기나 PLC 제어를 맞춤화할 수 있습니다. 다양한 선택이 가능하여 고객의 사용 습관에 맞출 수 있습니다.

• 문 개방 방법: 전통적인 개방 방법은 측면 개방이지만, 문 개방 방향과 방법을 맞춤화할 수 있으며, 수동, 반자동 및 자동화된 방식도 가능합니다.

• 다중 측면 가열: 용광로 크기에 따라 추가적인 다중 측면 가열 옵션을 제공하여 온도 균일성을 보장하며, 고온 처리 시 온도 균일성을 향상시킬 수 있습니다.

• 다중 지점 온도 제어: 다양한 사용 시나리오에 따라 다중 측면 가열을 선택하여 열 방사 효율성과 용광로 온도 범위를 개선할 수 있습니다.

• 배기구 및 가스 경로: 고객 요구 사항에 따라 추가적인 배기구, 가스 경로, 유량계 등을 추가하여 공정 요구 사항을 충족할 수 있습니다.

• 터치스크린 제어: Y&H는 인기 있는 산업용 터치스크린 모델을 기반으로 한 터치스크린 제어 시스템을 제공하며, 보고서, 데이터 및 실시간 관찰 및 다운로드 기능을 제공합니다.

표준 사양:

진공 분위기 마플 용광로는 재료 과학, 금속 가공, 세라믹 준비 등 다양한 분야에서 널리 사용됩니다. 안정적이고 제어 가능한 열처리 환경을 제공하여, 재료의 특정 특성 및 구조를 제어하는 데 유용합니다. 공기 중에서의 사용 온도가 1700℃인 고온 용광로는 다양한 분위기와 진공도에 따라 사용 온도가 달라질 수 있습니다. 자세한 사항은 문의해 주십시오.